Korzystając z tego, co najlepsze w obu światach (1)
Implanty NanoTite™ powstały dzięki wykorzystaniu sukcesu powierzchni OSSEOTITE® oraz przez stworzenie bardziej złożonej topografii powierzchni i maksymalizację potencjalnych zalet biologicznych fosforanu wapnia (CaP).
Tradycyjnie, CaP jest nanoszony na powierzchnię implantów metodą napylania plazmy, dzięki czemu powstaje powłoka o grubości zwykle w zakresie 50 - 100 mikronów. Właściwości powłok wytwarzanych metodą napylania plazmy sprawiają, że są one podatne na takie zjawiska, jak odwarstwianie lub rozpuszczanie amorficznej części powłoki. Dlatego też zalety CaP mogą być niwelowane przez określone czynniki ryzyka.

Przy powiększeniu 2000x wyraźnie widać brak ciągłości przylegania do implantu powłoki wytworzonej metodą napylania plazmy, natomiast w przypadku implantu NanoTite przy tym samym powiększeniu brak jest widocznych zmian adhezji powierzchniowej.
Nieciągłe depozycje o rozmiarach w skali nano stają się widoczne dopiero przy powiększeniu 20.000x. (Patrz fotografia na dole poprzedniej strony)
Tradycyjnie, CaP jest nanoszony na powierzchnię implantów metodą napylania plazmy, dzięki czemu powstaje powłoka o grubości zwykle w zakresie 50 - 100 mikronów. Właściwości powłok wytwarzanych metodą napylania plazmy sprawiają, że są one podatne na takie zjawiska, jak odwarstwianie lub rozpuszczanie amorficznej części powłoki. Dlatego też zalety CaP mogą być niwelowane przez określone czynniki ryzyka.

Nieciągłe depozycje o rozmiarach w skali nano stają się widoczne dopiero przy powiększeniu 20.000x. (Patrz fotografia na dole poprzedniej strony)
|
Porównanie implantów NanoTite z implantami produkowanymi przez napylanie plazmą HA | ||||||
|
|
Metoda nanoszenia powłoki |
Siła wiązania10 |
Krystaliczność11 |
Pokrycie powierzchni implantu 11 |
Zwiększenie powierzchni implantu w porównaniu z OSSEOTITE12 |
Ilość CaP12 |
|
Implant NanoTite |
Samoczynne wytrącanie nano kryształów |
>40x normy ASTM |
>95% czysto krystalicznego HA |
50% powierzchni OSSEOTITE |
Pole powierzchni zwiększone o 200% |
3,6-22,8 |
|
Implant z powłoką HA wytwarzaną przez napylanie plazmy |
Napylanie plazmy |
Równa normie ASTM wynoszącej 34,5 MPa |
Zmienna krystaliczność: zwykle obecna też jest część amorficzna |
100% powierzchni piaskowanej |
Nie dotyczy |
20.000 ?g |






